用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶（）。

解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？ 负性和正性光刻胶有什么区别和特点？ 光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。 有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。 光刻胶主要由（）等不同材料混合而成的。 利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中，掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉。 利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中，掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉（） 解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低？ 在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？ 通过负光刻胶定义的图形与所需要制备的图形相反。 光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶（） 光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有（）、（）、（）、（）。 使用曝光倍数为2的滤线栅，管电流应为不用滤线栅时的 使用曝光倍数为2的滤线栅，管电流应为不用滤线栅时的 例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。 由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的，所以其（）就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。 ()零钮制控制的X线机摄影时,只需要选定曝光部位就可进行曝光 家中通常用的电话线是哪种线 家中通常用的电话线是哪种线 光刻工艺中的曝光和显影工序必须在_（）__光室中进行。