判断题

光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的,曝光后硬化成不可溶解的物质,这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂,由此组成的光刻胶称为负性胶()

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判断题
光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的,曝光后硬化成不可溶解的物质,这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂,由此组成的光刻胶称为负性胶()
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单选题
光刻加工曝光中,由光源发出的光束经掩膜在光致抗蚀剂上成像,称为( )曝光。
A.扫描 B.掩膜 C.成像 D.投影
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单选题
将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触,再用紫外光照射来进行曝光的方法,称为()曝光。
A.接触 B.接近式 C.投影
答案
判断题
如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。
A.对 B.错
答案
主观题
电子束曝光抗蚀剂对离子的灵敏度要比对电子束(),因而可获得更加精细的图样。
答案
判断题
刻蚀是利用化学或物理方法,将有光致抗蚀剂部分的氧化膜除去。
答案
多选题
下面哪些曝光参数组合曝光强度是一致的?()
A.f8,1/125,iso800 B.f16,1/30,iso400 C.f16,1/60,iso1600 D.f2.8,1/250,iso200
答案
单选题
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单选题
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判断题
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答案
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