单选题

光刻加工曝光中,由光源发出的光束经掩膜在光致抗蚀剂上成像,称为( )曝光。

A. 扫描
B. 掩膜
C. 成像
D. 投影

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单选题
光刻加工曝光中,由光源发出的光束经掩膜在光致抗蚀剂上成像,称为( )曝光。
A.扫描 B.掩膜 C.成像 D.投影
答案
判断题
光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的,曝光后硬化成不可溶解的物质,这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂,由此组成的光刻胶称为负性胶()
答案
单选题
将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触,再用紫外光照射来进行曝光的方法,称为()曝光。
A.接触 B.接近式 C.投影
答案
判断题
金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜,带胶蒸发或溅射所需的金属,然后在去除光致抗蚀剂膜的同时,把胶膜上的金属一起去除干净()
答案
判断题
金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜,带胶蒸发或溅射所需的金属,然后在去除光致抗蚀剂膜的同时,把胶膜上的金属一起去除干净。()
答案
判断题
刻蚀是利用化学或物理方法,将有光致抗蚀剂部分的氧化膜除去。
答案
判断题
利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中,掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉。
答案
单选题
利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中,掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉()
A.正确 B.错误
答案
判断题
由光源发出的光束称为发散光束。
答案
判断题
光源发出的光经聚光镜折射后,形成平行光束,增强仪器的亮度()
答案
热门试题
例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。 ()是由光源发出经多次散射而无法确定其方向的光。 由一发光点发出的光束称为发散光束。 印刷电路板制造用光致抗蚀干膜 光刻工艺中的曝光和显影工序必须在_()__光室中进行。 ()是由一发光点发出的光束。 未来电子化学品的发展重点在于新型光致抗蚀剂、新型电子塑封材料、彩色等离子体平板显示屏(PDP)专用光刻系列浆料和液态感光成像阻焊剂等。 (报关编码) 印刷电路板制造用光致抗蚀干膜 裂隙灯光源发出的光线通过聚光镜由裂隙选定光束的形态。 裂隙灯光源发出的光线通过聚光镜由裂隙选定光束的形态() 由一发光点发出的()称为发散光束。 光刻工艺一般都要经过涂胶、()、曝光、()、坚膜、腐蚀、()等步骤。 光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺() 中国大学MOOC: 光刻工艺中的分辨率是指能精确转移到晶片表面抗蚀剂上图案的最小尺寸。 光学准直仪中由光源发出的光经分划板、半透反射镜和物镜后射到上() 光源发出光经单色器分光后经反射镜分解为强度相等的两束光属于() 电信号加载到光源的发射光束上变成光信号即是() 721型分光光度计的光路是从光源经()发出一束平行光 在深紫外曝光中,需要使用()光刻胶。 微孔膜包衣片衣膜上的致孔剂是
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