判断题

金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜,带胶蒸发或溅射所需的金属,然后在去除光致抗蚀剂膜的同时,把胶膜上的金属一起去除干净。()

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判断题
金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜,带胶蒸发或溅射所需的金属,然后在去除光致抗蚀剂膜的同时,把胶膜上的金属一起去除干净。()
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判断题
金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜,带胶蒸发或溅射所需的金属,然后在去除光致抗蚀剂膜的同时,把胶膜上的金属一起去除干净()
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单选题
光刻加工曝光中,由光源发出的光束经掩膜在光致抗蚀剂上成像,称为( )曝光。
A.扫描 B.掩膜 C.成像 D.投影
答案
判断题
刻蚀是利用化学或物理方法,将有光致抗蚀剂部分的氧化膜除去。
答案
单选题
将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触,再用紫外光照射来进行曝光的方法,称为()曝光。
A.接触 B.接近式 C.投影
答案
单选题
金属氧化膜必须具有一定厚度,而且是()
A.光洁的 B.有方向的 C.连续的 D.不可再生的
答案
主观题
印刷电路板制造用光致抗蚀干膜
答案
主观题
(报关编码) 印刷电路板制造用光致抗蚀干膜
答案
判断题
光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的,曝光后硬化成不可溶解的物质,这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂,由此组成的光刻胶称为负性胶()
答案
单选题
金属塑料复合带的金属带与塑料膜间的剥离强度应不小于()N/cm。
A.5.13 B.6.13 C.7.13 D.8.13
答案
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