单选题

调节对象的容量滞后和纯滞后不大,负荷常有较大变化,工艺又有无差要求时,应采用()

A. P调节
B. PD调节
C. PID调节
D. PI调节

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对调节通道滞后较小,负荷变不大,工艺上没有提出无差控制的系统,调节器应选择()。 串级控制系统当对象具有较大的纯滞后而影响控制质量时;在选择副变量时应使副环尽量多包含纯滞后或不包含纯滞后。 微分控制主要用来克服对象的容量滞后和时间常数大的影响,对纯滞后不起控制作用() 纯滞后时间长,将使系统超调量,干扰通道中纯滞后对调节品质 纯滞后时间长,将使系统超调量(),干扰通道中纯滞后对调节品质()。 化工过程测量中,()测量易引入纯滞后。 对纯滞后大的调节对象,为克服其影响,可引入微分调节来克服() 对纯滞后的调节对象,为克服其影响,可以用加微分调节来克服。 调节器加入微分作用主要是用来()的惯性滞后和容量滞后 调节器加入微分作用主要是用来()的惯性滞后和容量滞后 ( )存在纯滞后,通常不影响调节质量。 对象滞后较大,负荷变化较大但不是特别频繁,控制质量要求高。这样的场合一般选用()控制规律。 对纯滞后大的调节对象,为克服其影响,可引入微分调节作用来克服() 对纯滞后大的调节对象,为克服其影响,可引入微分调节作用来克服。() 〉对纯滞后的调节对象,为充服其影响,可引入位分调节作用来充服() ()控制规律一般不单独使用,通常和比例控制作用组合在一起用于对象滞后较大,负荷变化不大,变化不频繁,控制结果允许余差的场合。 串级调节系统可以用于改善纯滞后时闸较长的对象,有超前作用() 在自控系统中对纯滞后大的调节对象,为克服其影响可引入来克服 判断下列调节对象中哪个对象滞后最大(). 化工测量过程中测量参数()测量易引起纯滞后。
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