以下有关配位滴定掩蔽剂叙述正确者为（）
A. 沉淀掩蔽剂与干扰离子生成的沉淀最好是无定形的
B. 沉淀掩蔽剂与干扰离子生成的沉淀溶解度要小
C. 掩蔽剂用量越多越好
D. 掩蔽剂最好是无毒或低毒的
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以下有关配位滴定掩蔽剂叙述正确者为（）
A.沉淀掩蔽剂与干扰离子生成的沉淀最好是无定形的 B.沉淀掩蔽剂与干扰离子生成的沉淀溶解度要小 C.掩蔽剂用量越多越好 D.掩蔽剂最好是无毒或低毒的
答案
在EDTA配位滴定中，下列有关掩蔽剂的叙述哪些是正确的（）。
A.配位掩蔽剂必须可溶且无色 B.氧化还原掩蔽剂必须改变干扰离子的价态 C.掩蔽剂的用量越多越好 D.掩蔽剂最好是无毒的
答案
在EDTA配位滴定中，下列有关掩蔽剂的叙述中正确的是（）。
A.配位掩蔽剂必须可溶且无色 B.氧化还原掩蔽剂必须改变干扰离子的价态 C.掩蔽剂的用量越多越好 D.掩蔽剂最好是无毒的
答案
在 EDTA 配位滴定中，下列有关掩蔽剂的叙述，错误的是_
答案
在EDTA配位滴定中，下列有关掩蔽剂的叙述哪些是错误的（）。
A.配位掩蔽剂必须可溶且无色 B.氧化还原掩蔽剂必须改变干扰离子的价态 C.掩蔽剂的用量越多越好 D.掩蔽剂最好是无毒的
答案
以下有关配位滴定方式叙述错误的是（）。
A.被测离子与EDTA所形成的配合物不稳定时可采用返滴定法 B.直接滴定无合适指示剂或被测离子与EDTA反应速度慢时可采用返滴定法 C.直接滴定无合适指示剂时可采用置换滴定法 D.被测离子与EDTA所形成的配合物不稳定时可采用置换滴定法
答案
氧化还原掩蔽剂是配位滴定中应用最多的掩蔽剂。]（）
A.是 B.否
答案
在配位滴定中，对配位掩蔽剂的要求有（）
A.与干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的 B.干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小 C.掩蔽剂应不与被测离子配位，或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性 D.在滴定要求的PH范围内，具有很强的掩蔽能力
答案
在EDTA滴定中,下列有关掩蔽剂的应用叙述,正确的是()。
A.当铝、锌离子共存时,可用NH4F掩蔽Zn2+,而测定Al3+ B.测定钙、镁时,可用三乙醇胺掩蔽少量Fe3+、Al3+ C.i3+、Fe2+共存时,可用盐酸羟胺掩蔽Fe3+的干扰 D.钙、镁离子共存时,可用NaOH掩蔽Mg2+
答案
在配位滴定中，消除干扰离子的掩蔽法有：沉淀掩蔽法、配位掩蔽法和氧化还原掩蔽法（）
答案
热门试题
提高配位滴定选择性的方法有和利用掩蔽剂消除干忧
EDTA滴定中，下列有关掩蔽剂的应用叙述错误的是（）
配位滴定中,在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时,下列注意事项中说法正确的是()。
三乙醇胺作为配位滴定法掩蔽剂在（）条件下加入
配位掩蔽法使用的掩蔽剂应具备哪些条件？
配位滴定中，在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时，下列注意事项中说法不正确的是（）
在配位滴定中，消除干扰离子常用的掩蔽法有（）
在配位滴定中，下列有关酸效应的叙述，正确的是 （? ?）
配位滴定中使用氢化物作掩蔽剂时应注意先将溶液调节为碱性后再加入（）
以EDTA配位滴定剂，下列叙述中错误的是（）
配位滴定法中常用的滴定剂是配位滴定法中常用的滴定剂是（）
以下有关阶梯掩蔽法的说法正确的是（）
在EDTA配位滴定中，下列有关酸效应的叙述正确的是：(? ? ?)
以下有关MR对比剂的叙述，正确的是（）。
配位滴定指示剂（）
在EDTA配位滴定中，下列有关酸效应系数的叙述，正确的是（ ）
在EDTA配位的滴定中,下列有关酸效应系数的叙述。正确是（）
EDTA配位滴定中，下列有关酸效应系数的叙述，何者是正确的（）
以下有关阶梯掩蔽法的说法正确的为是()。
在EDTA配位滴定中，下列有关酸效应系数的叙述，何者是正确的（）
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