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提高配位滴定选择性的方法有和利用掩蔽剂消除干忧

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提高配位滴定选择性的方法有和利用掩蔽剂消除干忧
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判断题
常用的提高配位滴定选择性的方法有控制溶液的酸度、掩蔽和解蔽的方法、化学分离法等。
答案
判断题
常用的提高配位滴定选择性的方法有控制溶液的酸度、掩蔽和解蔽的方法、化学分离法等()
答案
多选题
提高配位滴定的选择性可采用的方法是()。
A.增大滴定剂的浓度 B.控制溶液温度 C.控制溶液的酸度 D.利用掩蔽剂消除干扰
答案
判断题
在配位滴定中,消除干扰离子的掩蔽法有:沉淀掩蔽法、配位掩蔽法和氧化还原掩蔽法()
答案
多选题
在配位滴定中,对配位掩蔽剂的要求有()
A.与干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的 B.干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小 C.掩蔽剂应不与被测离子配位,或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性 D.在滴定要求的PH范围内,具有很强的掩蔽能力
答案
主观题
提高络合滴定选择性方法有()和()。
答案
单选题
在配位滴定中,消除干扰离子常用的掩蔽法有()
A.沉淀掩蔽法 B.配位掩蔽法 C.氧化还原掩蔽法 D.以上都是
答案
单选题
氧化还原掩蔽剂是配位滴定中应用最多的掩蔽剂。]()
A.是 B.否
答案
多选题
提高络合滴定选择性的方法有()
A.控制溶液浓度 B.控制溶液酸度 C.加快滴定速度 D.加掩蔽剂消除干扰
答案
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