单选题

关于线性-二次模型(LQ)的描述,正确的是()

A. 以DNA双键断裂造成细胞死亡为理论依据
B. 两个不同电离粒子不能协同作用来杀死细胞
C. 建立在上皮和皮下组织放射耐受性的基础上,主要适用于5~30次分割照射范围
D. α/β比值受所选择的生物效应水平的影响,因而不能反映早期反应组织和晚期反应组织以及肿瘤对剂量反应的差别
E. 是靶理论模型的一种

查看答案
该试题由用户679****79提供 查看答案人数:2251 如遇到问题请 联系客服
正确答案
该试题由用户679****79提供 查看答案人数:2252 如遇到问题请联系客服

相关试题

换一换
单选题
关于线性-二次模型(LQ)的描述,正确的是()
A.以DNA双键断裂造成细胞死亡为理论依据 B.两个不同电离粒子不能协同作用来杀死细胞 C.建立在上皮和皮下组织放射耐受性的基础上,主要适用于5~30次分割照射范围 D.α/β比值受所选择的生物效应水平的影响,因而不能反映早期反应组织和晚期反应组织以及肿瘤对剂量反应的差别 E.是靶理论模型的一种
答案
单选题
下列关于线性———二次模型(LQ)的描叙中,准确的是()。
A.线性—二次模型(LQ)是以DNA双键断裂造成细胞死亡为理论依据的。 B.线性—二次模型(LQ)是以N0.24来描叙不同组织的修复功能。 C.线性—二次模型(LQ)是建立在上皮喝皮下组织放射耐受型的基础上,主要适用与5次到30次分割照射范围。 D.Ea/b比值一般受锁选择的生物效应水平的影响,因而不能反应早反应组织喝晚期反应组织以及肿瘤对剂量反应的差别。 E.线性—二次模型(LQ)是细胞模型。
答案
单选题
下列关于线性———二次模型(LQ)的描叙中,准确的是()
A.线性—二次模型(LQ)是以DNA双键断裂造成细胞死亡为理论依据的 B.线性—二次模型(LQ)是以N0.24来描叙不同组织的修复功能 C.线性—二次模型(LQ)是建立在上皮喝皮下组织放射耐受型的基础上,主要适用与5次到30次分割照射范围 D.EA/B比值一般受锁选择的生物效应水平的影响,因而不能反应早反应组织喝晚期反应组织以及肿瘤对剂量反应的差别 E.线性—二次模型(LQ)是细胞模型
答案
多选题
关于二次空气喷射系统描述正确是()
A.该系统只是部分时间内工作 B.该系统只是冷起动后冷却液温度低时工作 C.发动机起动后该系统一直工作 D.该系统工作与发动机温度有关
答案
单选题
在线性二次模型中,有关参数α、β的说法,正确的是()。
A.α是二次细胞杀灭常数 B.β是线性细胞杀灭常数 C.α/β是线性和二次细胞杀灭贡献相等时的剂量 D.早反应组织α/β较晚反应组织小 E.α/β是个比值,没有单位
答案
单选题
在线性二次模型中,有关参数α、β的说法,正确的是()
A.α是二次细胞杀灭常数 B.β是线性细胞杀灭常数 C.α/β是线性和二次细胞杀灭贡献相等时的剂量 D.早反应组织α/β较晚反应组织小 E.α/β是个比值,没有单位
答案
单选题
下面关于敏捷模型描述不正确是()
A.与传统型相比,敏捷模型属于自适应过程 B.可以应对需求的不断变化 C.Scrum模型、XP模型、DevOps模型等都属于敏捷模型 D.敏捷模型的预测型和迭代型混合模型
答案
多选题
关于二次安检如下描述正确的是()
A.配合安检人员对您身体正面和背面进行检查,二次安检人员需要进行登记 B.配合安检人员对您的腰带、裤腿等位置进行检查 C.若安检人员要求您脱掉鞋子进行检查,如有鞋垫,请您掏出,积极配合
答案
多选题
以下关于非线性编辑软件电安全框描述正确是()
A. 安全边框一般呈&dqu;回&Bdquo;字形 B. 安全框会被记录或输出 C. 安全边框的大小并不是固定不变的 D.安全框中的画而范围,也就是最终用户所看到的画面范围
答案
多选题
以下关于非线性编辑软件中安全框描述正确是()
A.安全边框一般呈& ldquo;回&: rdquo:字形 B.安全框会被记录或输出 C.安全边框的大小并不是固定不变的 D.安全框中的画面范围,也就是最终用户所看到的画面范围
答案
购买搜题卡 会员须知 | 联系客服
会员须知 | 联系客服
关注公众号,回复验证码
享30次免费查看答案
微信扫码关注 立即领取
恭喜获得奖励,快去免费查看答案吧~
去查看答案
全站题库适用,可用于E考试网网站及系列App

    只用于搜题看答案,不支持试卷、题库练习 ,下载APP还可体验拍照搜题和语音搜索

    支付方式

     

     

     
    首次登录享
    免费查看答案20
    微信扫码登录 账号登录 短信登录
    使用微信扫一扫登录
    登录成功
    首次登录已为您完成账号注册,
    可在【个人中心】修改密码或在登录时选择忘记密码
    账号登录默认密码:手机号后六位