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例出典型的硅片湿法清洗顺序。

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主观题
例出典型的硅片湿法清洗顺序。
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例出典型的硅片湿法清洗顺序
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单选题
下面哪个不是硅片的清洗方法()
A.化学清洗法 B.超声清洗法 C.真空高温清洗法 D.清水清洗法
答案
单选题
以下选项中不是硅片清洗的作用的是?()
A.在等离子边缘腐蚀中,如果有油污、水汽、灰尘和其他杂质存在,会影响器件的质量,清洗后质量大大提高 B.在硅片外延工艺中,杂质的存在会影响硅片的电阻率不稳定 C.在太阳能材料制备过程中,在硅表面涂一层具有良好性能的增反膜,有害的杂质离子进入二氧化硅层,会降低绝缘性能,清洗后绝缘性能会更好 D.硅片中杂质离子会影响P-N结的性能,引起P-N结的击穿电压降低和表面漏电,影响P-N结的性能
答案
单选题
在将清洗完的硅片放进扩散炉扩散时,需要将硅片先装入(),然后再装入扩散炉。
A.耐热陶瓷器皿 B.金属器皿 C.石英舟 D.玻璃器皿
答案
主观题
超出典型发展的区间范围才算是()发展。
答案
填空题
研究者在典型调查中所研究的典型主要是突出典型、()典型、全面典型三种类型。
答案
单选题
提出典型人物“特征”概念的理论家是()
A.黑格尔 B.席勒 C.歌德 D.希尔特
答案
单选题
在清洗硅片时常用到真空高温处理法,不是其优点是()
A.由于硅片处于真空状态,因而减少了空气中灰尘的沾污 B.硅片表面可能吸附的一些气体和溶剂分子的挥发性增加 C.硅片可能沾污的一些固体杂质在真空高温条件下,易发生分解而除去 D.对一些复杂的容器或器件也能清洗
答案
主观题
例举并描述硅片拣选测试中的三种典型电学测试。
答案
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