主观题

用铱192透照某工件,曝光10分钟可获得理想的底片,150天后,以相同条件用该源透照同一工件时,要获得相同质量的底片需曝光()分钟

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用铱192透照某工件,曝光10分钟可获得理想的底片,150天后,以相同条件用该源透照同一工件时,要获得相同质量的底片需曝光()分钟
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铱192的半衰期为75天,用该新源透照工件最佳的曝光时间为10分钟,225天后重照同样的工件(),则需曝光()分钟。
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主观题
用100居里的铱192γ射线源透照某工件,焦距1米,曝光时间5分钟,能得到合适的底片黑度。225天后,用该源透照相同工件,焦距变为2米,为得到相同黑度,曝光时间应为()分钟。
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判断题
透照某工件,采用金属荧光增感,管电流5mA,透照时间4分钟,获得底片黑度为1.8,若其他条件不变,把管电流改为10mA,透照时间改为2分钟,底片黑度仍不变。
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判断题
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判断题
已知铱192源在距离1米时的曝光时间为60分钟,如果把曝光时间缩短为15分钟,则需要将距离缩短到0.25米。
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