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随着集成电路光刻技术的不断发展,芯片的光刻线宽越来越_____。

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主观题
随着集成电路光刻技术的不断发展,芯片的光刻线宽越来越_____。
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单选题
集成电路自1959年被发明以来,其发展的总趋势是:在单位面积的芯片上集成的电子元件越来越多,而连接这些元器件的线宽却越来越窄。集成电路现在正在向更窄的线宽迈进。如我国华为公司设计的手机芯片“麒麟980”就采用了__纳米的最新工艺。319()
A.10 B.7 C.5
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主观题
集成电路自1959年被发明以来,其发展的总趋势是:在单位面积的芯片上集成的电子元件越来越多,而连接这些元器件的线宽却越来越窄。集成电路现在正在向更窄的线宽迈进。如我国华为公司设计的手机芯片麒麟980就采用了(7)纳米的最新工艺
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主观题
线宽是集成电路芯片制造中重要的技术指标,目前制造CPU芯片的主流技术中线宽为
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单选题
集成电路自1959年被发明以来,其发展的总趋势是:在单位面积的芯片上集成的电子元件越来越多,而连接这些元器件的线宽却越来越窄。集成电路现在正在向更窄的线宽迈进。如我国华为公司设计的手机芯片“麒麟980”就采用了()纳米的最新工艺。(出题单位:科学普及出版社)()
A.10 B.7 C.5
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多选题
超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有()。
A.高分辨率 B.高灵敏度 C.精密的套刻对准 D.大尺寸 E.低缺陷
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单选题
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A.传统媒体 B.新兴媒体 C.融合媒体 D.全息媒体
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单选题
随着半导体集成电路的发展,外部设备在计算机系统硬件的价格中所占的比重将越来越低()
A.正确 B.错误
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判断题
随着半导体集成电路的发展,外部设备在计算机系统硬件的价格中所占的比重将越来越低()
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单选题
运输产品的效用是二元的,随着技术的不断发展进步,衡量运输产品优劣的标准越来越倾向于(  )。
A.空间效用 B.时间效用 C.质量效用 D.心理效用
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